磁控溅射镀膜设备是一种具有结构简单、电器控制稳定性好等优点的真空镀膜机，其工艺技术的选择对薄膜的性能具有重要影响。

磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程如下：

陶瓷片→超声清洗→装夹→抽本底真空→plasma清洗→加热→通氩气→预溅射→抽本底真空→溅射(或多次溅射)→镀AF膜→破真空卸片→表面检验→性能测试→包装、入库。

以上工艺技术是以磁控溅射镀膜设备为基础，选用合适的靶材和溅射工艺，制出超硬的耐磨镀层，可以实现材料的高硬度、高耐磨、高耐划伤特性；

同时，利用NCVM光学膜结构设计，设计出各层不同折射率材料，可以调配出任意颜色，使得陶瓷不仅硬度高、强度高，具备外观件时尚、美观的特点，而且不会屏蔽电磁信号。