真空蒸镀
1. 基本原理 真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）是在真空室中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流入射到固体（称为衬底或基片）表面凝结形成固态薄膜的方法。
2. 真空蒸镀时尤其是对真空环境的要求更严格其原因有：
A. 防止在高温下因空气分子和蒸发源发生反应
B. 防止因蒸发物质的分子在镀膜室内与空气分子碰撞
C. 防止空气分子作为杂质混入膜内或者在薄膜中形成化合物
3. 设备： 真空镀膜室和真空抽气系统两大部分组成。真空镀膜室内装有蒸发源、被蒸镀材料、基片支架及基片等。
